PRODUCT
회사 전체가 목적 의식을 가진 "의지"와 "열기 넘치는 도전적인 기술 집단" 이어야합니다.
  • EXP-2031B
  • EXP-2500
  • EXP-2700
  • EXP-2900
EXP Series
전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
  • EXP-2031B
    회로 PTN.SR의 두 공정에 모두 대응
  • EXP-2500
    광학계와 스테이지를 혁신한 회로 PTN용 모델
  • EXP-2700
    업계 최고의 조도를 실현한 고정밀 SR용 모델
  • EXP-2900
    평행광/산란광의 광원을 선택할 수 있는 양면 동시 모델
EXP Series
EXP-2031B
전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
[회로 PTN용 / SR용 (평행광)] 전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을
양립한 라인업으로써, 회로 PTN.SR의 두 공정에 모두 대응하는 분할노광 기능을 탑재한
하이엔드 모델입니다.
생산성
ORC의 신개발 8kW Short Arc UV-Lamp 탑재로 초기 조도 85 mW/c㎡ 을 실현.
노광시간을 기존 모델보다 약 25% 단축 하였습니다.
박판대응
오랜기간 축적된 ORC의 광학 기술을 이용하여 DFR으로 L/S=12μm,
SR 레지스트로 SRO Φ 50μm의 높은 해상력을 실현하고 있습니다.
Alignment 정도
ORC가 독자 개발한 Alignment 카메라용 고성능 렌즈와 조명계를 채용하고 있습니다.
마크 인식도의 향상으로 높은 위치 정도를 얻을 수 있습니다.
분할노광기능
제품의 요구 정도에 따라서 2/3/4/6 분할의 위치 정합, 노광이 가능합니다.
분할 영역별에 따른 Alignment로 종합 위치정도가 향상됩니다.
크린룸 대응
HEPA필터를 반송기구부와 노광실에 탑재. Down Flow의 최적화를 통해 미세한 Particle을 제거합니다. 또 새롭게 개발된 크리닝 장치에서 마스크 필름이나 노광 스테이지의 이물질을 제거합니다.
EXP Series
EXP-2500
전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
[회로 PTN용 / SR용 (평행광)] 전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을
양립한 라인업으로써, 대형 사이즈에 대응하며 광학계와 스테이지를 혁신한 고생산성•고정도
회로 PTN용모델입니다.
생산성
대형 사이즈 기판(26"×22") 노광을 고조도로 노광하기 때문에 뛰어난 생산성을 발휘합니다.
※ 노광 유효 영역 24"×20"
노광 정도 / 해상성
새롭게 설계한 광학계를 채용하여 해상도가 크게 향상 되었습니다.
또 스테이지 설계를 혁신하여 노광 정도도 향상됐습니다.
Running Cost
고정도 • 장수명의 UV-Lamp를 이용한 일등식 UV-Lamp를 채용함으로써,
Running Cost를 기존 제품의 1/2 이하로 줄였습니다.
Alignment 정도
ORC가 독자 개발한 Alignment 카메라용 고성능 렌즈와 조명계를 채용하고 있습니다.
마크 인식도의 향상으로 높은 위치 정도를 얻을 수 있습니다.
크린룸 대응
표준 사양의 마스크 클리닝 기구와 HEPA 필터를 통해 이물에 의한 제품 불량을 저감 시킵니다.
옵션에 따라 상하류 간 중간 Clean Roller를 설치할 수 있습니다.
EXP Series
EXP-2700
전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
[SR용 (산란광)] 전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
으로써, 자체개발의 UV-Lamp로 업계 최고의 조도를 실현한 고정밀 SR용 모델입니다.
생산성
대형 사이즈 기판(26"×22")에 대한 대응과 신개발 고출력 UV-Lamp의 상승 효과로 노광시간이 크게 단축
되었습니다.
Alignment 정도
이전 장비(EXP-2001B)와 비교하여 기판과 마스크의 위치 정도가 크게 향상 되었습니다.
Setting
준비시간 단축을 위해 노광Flame Glass의 경량화, Setting 정보의 레시피화 등
최신 기구를 채용하고 있습니다.
크린룸 대응
표준 탑재된 HEPA 필터와 옵션의 자동 마스크&스테이지 크리닝 기구를 이용하여 이물질에 의한 제품 불량을 저감 시킵니다.
EXP Series
EXP-2900
전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업
[회로 PTN용 (평행광) / 액상 레지스트 (산란광) 선택식] 전자 회로 기판의 효율적인 생산에 기여
하고, 고성능•고생산성을 양립한 라인업으로써, 감재에 맞추어 평행광/산란광의 광원을
선택할 수 있는 양면 동시 노광모델입니다.
광원 다양성
사용 용도에 따라 광원을 선택하세요.
- 회로 PTN용: 5kW Short Arc UV-Lamp 평행광 (정도 중시)
- 액상 레지스트용: 7kW 산란광 (생산성 중시)
Alignment 정도
노광Frame의 강성 향상과 온습도 제어 장치 탑재 등으로 기존 장치(EXP-
2010B)와 비교하면 기판과 마스크의 위치 정도가 크게 향상 되었습니다.
Setting
준비시간 단축을 위해 ORC독자의 밀착 방식에 의한 Spaceless 노광, 노광 Frame 글래스의 경량화 Setting정보의 레시피화 등 최신 기구를 채용하고 있습니다.
크린룸 대응
표준 탑재된 HEPA 필터와 옵션의 자동 마스크&스테이지 크리닝 기구를 이용하여 이물질에 의한 제품 불량을 저감 시킵니다.
옵션
  • 카메라 이동 기구(반사광 조명)
  • 더블 라인 레이아웃 대응(평행광의 경우) 등
SK n Techno Park Biz Center B311, 190-1 Sangdaewon-dong, Jungwon-gu, Seongnam-si, Gyeonggi-do, Korea TEL : 031-776-2777 FAX : 031-776-2781
COPYRIGHT (C) OKC. ALL RIGHTS RESERVED.